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是若何任务的呢？它经由进程紫外灯收回恰当强度的185nm和254nm波长高能紫外线粉碎有物份子(净化物)。185nm紫外线能够将氧份子O2变成活泼的O3臭氧份子团。254nm紫外线同时激起外表的无机物份子，进步其敏理性，能够被臭氧份子团粉碎。
一、今朝冠军白菜大全
的首要操纵外表UV光洗濯和外表UV光改质
1、外表UV光洗濯：操纵紫外光和由其发生的臭氧OZONE，对无机物资所起的光敏氧化分化感化，以到达去除粘附在物体外表上的无机化合物（碳氢化合物），取得超干净的外表。
2、外表UV光改质：操纵紫外光照射无机外表，在将无机物分化的同时，254nm波长的紫外光被物体外表接收后，将表层的化学布局堵截，光子感化发生原子氧会与被堵截的表层份子连系，并将之变更成具备高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而进步外表的浸润性。
二、首要操纵：
1、石英/玻璃成品的外表洗濯：液晶面板,等离子电视屏幕,黑色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。
2、微电子产物的外表洗濯：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。
3、紧密集成电路的外表洗濯：液晶显现器ITO,紧密电路板,软性电路板讨论,BGA基板的洗濯,COG的洗濯,COF(ILB)接合面的洗濯,薄膜基板的洗濯,金属基板的洗濯，BGA基板与粘结垫的洗濯。
4、在胶粘接或是印刷之前，对高份子聚合成品的外表改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜掩护膜,塑料薄膜,树脂成型氛围袋,IC包装,打针針接合部份的外表性,参与导管的外表改型等。
5、科研进程的外表洗濯及处置：半导体，生物芯片，纳米资料，聚合物，光化学等。
