产物型号：TB-616
用处规模：首要用于液体，胶体在资料表面薄膜的构成，合用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研，教导，出产中利用。
首要特色：
装有高精度多法式节制器：
每一个涂敷工艺进程能够设置25步差别的速率状况；
可设定存储26个差别样片的扭转涂敷工艺进程；
能够节制加快率；
安稳转速，预设值与现实值 偏差率 1‰ ；
液晶显现屏能够及时显现：中英文两套操纵体系供挑选。
1. 第N个涂敷工艺进程
2. 所处任务段
3. 真空吸片状况。
4. 设置时候；及及时运转时候。
5. 设置速率；及及时速率状况。
空吸片体系更宁静：
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装置有真空度传感器，涂敷任务进程电脑及时检测体系真空度，
必须在宁静的真空度下，机电启动，运转。保证靠得住吸片，不飞片
变频调速机电，转速精度更高：300 - 10000 转/分，转速不变性：+ - 0.1 %,高转速10000转/分，机电功率：150W。
时候设置：可设定时候：1---9999秒
不锈钢机壳:外表面干净亮光,雅观，便利洗濯。
NPP材质任务腔:能够轻松拆下洗濯，可用丙酮擦拭;NPP的化学不变性优良，对大大都酸、碱、盐、氧化剂都显惰性。
规范设置装备摆设：
扭转真空吸盘直径：4英寸(102mm，规范设置装备摆设)
可挑选设置装备摆设： 基片直径10—150mm可接受定货。
布局尺寸：260mm宽 x 350mm深 x 260 mm高 。
